本文將講述如何rayfile轉(zhuǎn)換為面光源，Rayfile光源文件包含有限數(shù)量的光線，表面光源有無限量的光線，這使得表面源對于使用逆模擬，得到清晰可視化仿真特別有用。

表面光源均勻地從幾何形狀表面的每個點(diǎn)發(fā)射光，這種簡單的方法可以在沒有指定光源的早期開發(fā)階段使用。

高階段的表面光源通過使用從rayfile文件光源獲取光信息，更準(zhǔn)確的以模擬面光源代替rayfile光源，打破rayfile光源內(nèi)有限光線數(shù)對仿真的限制。

下面將在本文中介紹這種轉(zhuǎn)換方法:

• 步驟1:用一個初步的模擬獲取rayfile(s)光源屬性。

• 步驟2:使用先前獲取的屬性文件再創(chuàng)建表面源。

當(dāng)然為了創(chuàng)建一個表面光源，需要4個元素，獲取這些元素數(shù)據(jù)，可以確保表面光源在近場和遠(yuǎn)場的正確建模：

• Flux光通量：在數(shù)據(jù)表中查找，或通過初步模擬獲取。

• Exitance：一般是常數(shù)，或通過初步模擬以輻照度探測器獲取XMP文件。

• Intensity：數(shù)學(xué)定義，或通過初步模擬用強(qiáng)度探測器獲取XMP文件。

• Spectrum：在數(shù)據(jù)表中查找，或通過初步模擬獲取。

步驟1:用一個初步的模擬獲取rayfile(s)屬性

創(chuàng)建輻Irradiance照度探測器，在LED最后可見表面前面距離處(例如0.1 mm)創(chuàng)建一個輻照度探測器。

對于可見波長，“type”應(yīng)設(shè)置為photometric。

當(dāng)然根據(jù)設(shè)計的復(fù)雜程度，可能需要大量的光線來精確模擬輸出，這樣就采用對每個rayfile光線文件重復(fù)利用，例如在每個芯片位置的rayfile光源重復(fù)三次，這樣以便減少rayfile光源對仿真光線數(shù)的限制。

步驟2:使用先前獲取的屬性創(chuàng)建表面光源。

使用輻照度和強(qiáng)度結(jié)果作為輸入創(chuàng)建一個表面光源。這兩個輸出的XMP結(jié)果可以從“SPEOS output files”文件夾中抓取。

1. Exitance

將variable設(shè)置為“True”，并選擇輻照度結(jié)果作為文件。“原點(diǎn)”和“X/Y方向”應(yīng)與原始仿真中的探測器設(shè)置相同。

2. Intensity

設(shè)置強(qiáng)度類型為“Library”，并選擇強(qiáng)度結(jié)果作為強(qiáng)度文件?！霸c(diǎn)”和“X/Y方向”應(yīng)與原始仿真中的探測器設(shè)置相同。

3. Spectrum

如果在第一步獲取rayfile屬性的仿真中，強(qiáng)度探測器類型未設(shè)置為“colormetric”或“spectral”，則需要在面光源定義中添加光譜文件，這個頻譜文件必須從LED的數(shù)據(jù)中獲取，或者是官方網(wǎng)站下載。

如果在第一步獲取rayfile屬性的仿真中，強(qiáng)度探測器類型已經(jīng)設(shè)置為“colormetric”或“spectral”，光譜數(shù)據(jù)已經(jīng)包含在Intensity中，此時無需再次定義光譜數(shù)據(jù)。

4. 完成rayfile光源到表面光源的定義轉(zhuǎn)化。

對于多個光源的定義，可以使用Speos Pattern將創(chuàng)建的光源導(dǎo)入到一組坐標(biāo)系統(tǒng)中，一次完成對所有光源位置的定義。本文中的表面光源首先需要導(dǎo)出為Speos lightbox，以便在Speos pattern功能中使用。

當(dāng)然可以創(chuàng)建lightfield光場光源，以創(chuàng)建子光學(xué)系統(tǒng)的光傳輸結(jié)果，以便在更復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)中重復(fù)使用子光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)果，以便在計算模擬時減少計算時間。