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探究 Zemax OpticStudio偏振分析功能

發(fā)布日期:
2023-05-08

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本文介紹了OpticStudio模擬基于偏振的光學(xué)現(xiàn)象的幾種方法。本文的目的是在對(duì)基于偏振的光學(xué)進(jìn)行建模時(shí)檢查這些特征的優(yōu)勢(shì)和正確應(yīng)用。討論的功能包括偏振光瞳圖、瓊斯矩陣、雙折射、表面涂層等。這些對(duì)于波片和隔離器等實(shí)際應(yīng)用很重要。


簡介


偏振效應(yīng)被用于各個(gè)領(lǐng)域的無數(shù)光學(xué)系統(tǒng)中。OpticStudio允許用戶指定進(jìn)入系統(tǒng)的光的輸入偏振以及序列模式中的表面與偏振特性交互的設(shè)置,提供了對(duì)任何應(yīng)用進(jìn)行建模的方法。建模偏振相關(guān)介質(zhì)的三種方法是通過瓊斯矩陣表面、表面涂層和雙折射輸入/輸出表面。


為了選擇合適的表面類型,了解您嘗試建模的偏振器的用途很重要。本文將描述設(shè)置極化系統(tǒng)以及上述每個(gè)表面/表面設(shè)置的優(yōu)缺點(diǎn)。


偏振光源的產(chǎn)生


OpticStudio中的所有偏振分析都需要輸入偏振態(tài),通常以瓊斯矢量 (Jx, Jy) 的形式給出,其中X和Y的起始相位可選。向OpticStudio輸入偏振態(tài)有兩種方式。第 一種方法是在單獨(dú)的分析設(shè)置中明確定義初始偏振狀態(tài)(Jx、Jy和X/Y相位),例如使用偏振光線跟蹤(Polarization Ray Trace)和偏振光瞳圖(Polarization Pupil Map)。


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第二種方法是在系統(tǒng)管理器(System Explorer)的“偏振(Polarization)”部分應(yīng)用偏振狀態(tài)。通過檢查各個(gè)分析設(shè)置中的“使用偏振(Use Polarization)”設(shè)置(或類似設(shè)置),在任何適用分析窗口的計(jì)算中考慮此處輸入的狀態(tài)。


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系統(tǒng)管理器中定義的“方法(Method)”(或參考狀態(tài))需要將2D瓊斯矩陣輸入(Jx、Jy)轉(zhuǎn)換為3D電場分量(Ex、Ey、Ez)。雖然很容易認(rèn)為Jx對(duì)應(yīng)于S極化狀態(tài)的能量量,Jy對(duì)應(yīng)于P極化狀態(tài)的能量量,但如果沒有入射平面,這些定義是不明確的(參見這個(gè)論壇以獲取更多信息)。也就是說,從光源發(fā)射并沿射線矢量K在自由空間中傳播的射線需要參考才能準(zhǔn)確定義偏振態(tài)矢量S和P。在OpticStudio中,可以使用以下參考:


X 軸參考:?P向量由K叉乘X確定,S=P叉乘K(默認(rèn));

Y 軸參考:?S向量由Y叉乘K確定,P=K叉乘S;

Z 軸參考:?S向量由K叉乘Z確定,P=K叉乘S。


注意:S、P和K(傳播方向)始終是正交的。它們分別由下表中的紅色、藍(lán)色和綠色向量表示。


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這種方法允許用戶在生成輸入極化時(shí)能更加靈活。默認(rèn)表面在z方向具有表面法線,因此經(jīng)典的S和P定義將限制用戶生成Z參考輸入偏振。



偏振光瞳圖


偏振光瞳圖可以說是OpticStudio中非常有用的工具,可以快速查看給定表面上光束的偏振狀態(tài)。也就是說,它確實(shí)有一些細(xì)微差別,必須完全理解才能準(zhǔn)確解釋其結(jié)果。


通常,OpticStudio執(zhí)行與時(shí)間無關(guān)的計(jì)算(即它呈現(xiàn)穩(wěn)態(tài)系統(tǒng)的時(shí)間快照)。然而,極化瞳孔圖不是這種情況,它在定義的表面上隨著時(shí)間經(jīng)過一個(gè)周期時(shí)在笛卡爾圖上繪制電場矢量 (Ex, Ey) 的端點(diǎn)。這是因?yàn)橄辔浑S時(shí)間的變化決定了偏振橢圓的方向。對(duì)于幾乎所有系統(tǒng),OpticStudio是在時(shí)間上向前還是向后進(jìn)行計(jì)算并不重要,因?yàn)樗僭O(shè)系統(tǒng)處于穩(wěn)定狀態(tài)。默認(rèn)情況下,計(jì)算會(huì)在時(shí)間上向前看(即,如果系統(tǒng)要及時(shí)向前推進(jìn)一些小量,則在“將擊中”指定表面的光線的相位)。


此外,用戶應(yīng)注意,在定義Jx和Jy之間的初始相移時(shí),“X-相位”或“Y-相位”的正值將導(dǎo)致Jx相對(duì)于Jy在空間上滯后,反之亦然。例如,定義X-相位=90度和Y-相位=0度將導(dǎo)致電場的Ex分量落后Ey分量90度(見下圖)。


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假設(shè) (Jx, Jy) = (0.707,0.707),產(chǎn)生的偏振橢圓將是順時(shí)針、圓偏振,如偏振光瞳圖所示。


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偏振相關(guān)介質(zhì)的類型


在OpticStudio中,有多種方法可以操縱給定光束的偏振態(tài)。其中一些方法涉及引入與偏振相關(guān)的表面和材料。在這里,我們將介紹三種這樣的方法并描述它們?cè)贠pticStudio中的一般應(yīng)用。



瓊斯矩陣(Jones matrix)


瓊斯矩陣表面是為法向入射光設(shè)計(jì)的理想化構(gòu)造。它是一個(gè)二乘二的矩陣,它根據(jù)下式修改瓊斯向量(描述電場)


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其中A、B、C、D、Ex和Ey都是復(fù)數(shù)(有關(guān)詳細(xì)信息,請(qǐng)參閱“如何使用瓊斯矩陣表面”)。該矩陣可用于解釋具有2-D矢量的3-D現(xiàn)象,假設(shè)光沿Z軸傳播。因此,電場存在于X-Y平面中。如果射線確實(shí)與系統(tǒng)的Z軸對(duì)齊,則該表面可以為S和P狀態(tài)之間的相對(duì)相變以及S和P狀態(tài)的傳輸提供理想的模擬。


OpticStudio將允許用戶將瓊斯矩陣表面應(yīng)用于傾斜的入射角,但根據(jù)定義,此配置中的結(jié)果將代表近似值。該計(jì)算未考慮沿z的電場分量矩陣的影響、將光束分裂為普通分量和異常分量(如果對(duì)雙折射材料進(jìn)行建模)以及菲涅耳系數(shù)。


描述延遲器的瓊斯矩陣不應(yīng)與傾斜入射角一起使用。要準(zhǔn)確計(jì)算離軸相對(duì)相位變化,應(yīng)使用雙折射輸入和雙折射輸出表面。


描述偏振的瓊斯矩陣可以提供一個(gè)不錯(cuò)的離軸近似值。該表面將允許電場在z方向上傳輸,并表現(xiàn)出它們?cè)赬和Y電場分量的軸上的表現(xiàn)。然后減去平行于K的電場分量,使電場保持垂直于K。要?jiǎng)?chuàng)建作用于Ez分量的偏振表面,應(yīng)使用鍍膜。



表面鍍膜


OpticStudio允許用戶定義真實(shí)和理想化的薄膜光學(xué)鍍膜,并將這些鍍膜應(yīng)用于光學(xué)設(shè)計(jì)中的任何表面。OpticStudio還包含大量預(yù)設(shè)的鍍膜目錄,其中包括各種常用鍍膜。有關(guān)定義和應(yīng)用涂層的更多信息,請(qǐng)參見“如何在 OpticStudio 中定義金屬材料”(https://support.zemax.com/hc/articles/1500005488081)。盡管鍍膜可用于多種應(yīng)用,但本次討論將集中于它們?nèi)绾斡绊懝饩€的偏振態(tài)。


在這種情況下討論鍍膜時(shí),必須考慮這樣一個(gè)事實(shí),即電場的振幅和偏振狀態(tài)由向量描述:


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其中Ex、Ey、Ez是復(fù)數(shù)。電場矢量E必須與射線矢量的傳播正交。在兩種介質(zhì)之間的邊界處,電場的透射率、反射率和相位對(duì)于場的S分量和P分量是不同的。場的S分量是E沿垂直于入射平面的軸的投影,而P分量位于入射平面內(nèi)。入射平面包含射線傳播矢量和截點(diǎn)處的表面法線矢量。注意:根據(jù)S和P分量的這個(gè)定義,當(dāng)光線垂直于表面?zhèn)鞑r(shí),它們之間的區(qū)別變得模糊。


由此,我們可以看到,當(dāng)偏振光入射到表面時(shí),S和P偏振態(tài)是相對(duì)于該表面定義的。如果該表面涂有涂層,則透射光的部分可能會(huì)發(fā)生顯著變化,具體取決于系統(tǒng)管理器中定義的參考方法。


以一個(gè)點(diǎn)物體為例,它位于具有P狀態(tài)通過鍍層的平面前方一定距離處;來自該點(diǎn)的光被定義為具有初始偏振態(tài)Jx=0,Jy=1。使用X或Y軸參考,通過系統(tǒng)傳輸(或阻擋)的S和P偏振光的量在整個(gè)表面上顯著變化。這是因?yàn)樵诒砻嫔系乃腥肷潼c(diǎn),輸入偏振Jx和Jy分別保持平行于全局X軸和Y軸。


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但是,當(dāng)使用Z軸參考時(shí),Jx和Jy狀態(tài)會(huì)隨著光線矢量圍繞全局Z軸旋轉(zhuǎn)而發(fā)生變化,因此沒有被阻擋的偏振狀態(tài)。


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因此,在使用涂層時(shí),必須注意將涂層定義與輸入偏振參考方法正確關(guān)聯(lián)。


在應(yīng)用上述概念時(shí),用戶可以使用Ideal2和Table Coating格式分別指定S和P偏振光的實(shí)部和虛部振幅傳輸和反射系數(shù)。這些涂層格式非常適合模擬理想的偏振器。此外,CODA優(yōu)化操作數(shù)可用于優(yōu)化特定偏振值的涂層。


雙折射輸入/雙折射輸出

雙折射材料的運(yùn)作方式與OpticStudio內(nèi)部的瓊斯矩陣或鍍膜不同。要在序列模式下定義雙折射組件,用戶必須在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中定義兩個(gè)表面,一個(gè)雙折射輸入表面和一個(gè)雙折射輸出表面。在由這些表面界定的物理空間內(nèi),OpticStudio需要兩種材料,一種用于模擬常規(guī)折射率,另一種用于模擬雙折射介質(zhì)的非常規(guī)折射率。為此,OpticStudio使用為雙折射輸入表面定義的材料指數(shù)作為常規(guī)指數(shù)。然后將“-E”附加到材料名稱并在當(dāng)前加載的材料目錄中搜索該名稱;具有該名稱的材料用于非常規(guī)折射率。


通過這種定義雙折射介質(zhì)的方法,與瓊斯矩陣表面相比,雙折射輸入/輸出表面允許用戶計(jì)算菲涅耳系數(shù)和吸收,以提供更準(zhǔn)確的強(qiáng)度傳輸計(jì)算。也就是說,用戶可以有選擇地獨(dú)立跟蹤普通光束或異常光束,或者跟蹤一個(gè)同時(shí)考慮由于另一個(gè)引起的相位旋轉(zhuǎn)。這是由模式標(biāo)志控制的,它允許用戶在如何根據(jù)給定系統(tǒng)的普通光束和非常光束之間的角度偏差對(duì)雙折射效應(yīng)進(jìn)行建模方面具有更大的靈活性。有關(guān)模式標(biāo)志用途的更多信息,請(qǐng)參見“在“雙折射輸入”表面上選擇模式標(biāo)志有什么作用?。(https://community.zemax.com/got-a-question-7/what-does-selecting-a-mode-flag-on-a-birefringent-in-surface-do-655)


雙折射輸入/輸出表面在模擬雙折射方面的***局限是它們不考慮光線分裂的影響。為了考慮光線分裂,系統(tǒng)應(yīng)該轉(zhuǎn)換為非序列模式。


偏振表面相關(guān)應(yīng)用


本節(jié)介紹如何在OpticStudio中定義雙折射延遲器和光隔離器的簡要示例。有關(guān)雙折射偏振器的更深入設(shè)計(jì)示例,請(qǐng)參閱“如何設(shè)計(jì)雙折射偏振表面”。(https://support.zemax.com/hc/articles/1500005486841)


實(shí)用延遲器

光學(xué)延遲器(或波片)是有意將入射光的偏振從一種狀態(tài)改變?yōu)榱硪环N狀態(tài)的光學(xué)組件。此示例描述了如何構(gòu)建具有λ/4相變的有效零級(jí)延遲器,也稱為四分之一波片,它將線偏振光轉(zhuǎn)換為圓偏振光。它利用雙折射材料石英和HeNe激光器 (632.8 nm)。


通常,波片的延遲由下式給出:


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其中,Δn是普通模式和非常模式之間的折射率差,λ是光的波長,d是晶體的長度,Γ是以弧度為單位的延遲。變量m是一個(gè)自然數(shù),表示波片的階數(shù)。根據(jù)這個(gè)定義,由于光的2π周期性質(zhì),相對(duì)相位變化不受順序的影響。也就是說,高階波片比低階波片在物理上更厚,它們更容易受到熱膨脹的影響,離軸光束的延遲誤差被放大,如果波長與設(shè)計(jì)值不同,延遲誤差也會(huì)被放大 。


實(shí)際情況中,很少有真正的零級(jí)波片被生產(chǎn)出來,因?yàn)樗璧木w寬度對(duì)于制造來說太薄太脆弱。相反,有效的零級(jí)波片是由兩個(gè)較厚的單軸晶體(通常是相同的材料)制成的,它們具有交叉的晶軸。它們不如真正的零級(jí)波片有效,但由于它們更容易制造,因此它們?cè)谛阅芎涂芍圃煨灾g提供了良好的折衷。


要在OpticStudio中構(gòu)建這樣的組件,鏡頭數(shù)據(jù)編輯器應(yīng)如下所示。


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請(qǐng)注意,此鏡頭數(shù)據(jù)編輯器定義了一個(gè)10階四分之一波片(紫色),然后是一個(gè)10階零相對(duì)相位變化片(綠色)。該組合給出了有效的0階四分之一波片。兩個(gè)雙折射晶體的厚度計(jì)算如下:


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如上所述,OpticStudio一次僅跟蹤一組光線,但雙折射輸入/輸出表面允許用戶同時(shí)考慮普通和非正常光線。在該系統(tǒng)中,將Mode Flags設(shè)置為2或3可為系統(tǒng)的輸出狀態(tài)提供非常準(zhǔn)確的模型,因?yàn)槭⒉皇菑?qiáng)雙折射材料,因此普通光束和非常光束之間的角度偏差很小。此外,晶體內(nèi)的傳播距離相對(duì)較小,因此光束將在定義的圖像平面上幾乎完全重疊。使用模式2和45度線偏振輸入光束,輸出是完美的軸上圓偏振光。這與真正的零階波片(見下表)完全匹配預(yù)期結(jié)果。


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然而,隨著光束入射角的增加,有效的零級(jí)板開始增加比真正的零級(jí)板更多的延遲,導(dǎo)致橢圓偏振光并接近線性偏振光。在31.5度時(shí),有效的零級(jí)片基本上用作半波片而不是四分之一波片。


分析這些系統(tǒng)在僅考慮普通或特殊光束時(shí)的行為方式也很有趣。比較每種情況的結(jié)果的一種簡單方法是定義多配置編輯器,如下所示。此處,PRAM操作數(shù)應(yīng)用于雙折射輸入表面上的模式標(biāo)志。對(duì)于配置3,模式設(shè)置為零(普通光束);這在注釋行中標(biāo)記為“O-O”。對(duì)于配置4,它們分別為表面1和3設(shè)置為0(普通)和1(非尋常)(在注釋行中標(biāo)記為“O-E”),依此類推。


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光隔離器

光隔離器是只允許光在一個(gè)方向上傳輸?shù)慕M件。此類組件通常會(huì)引發(fā)磁光現(xiàn)象,例如法拉第效應(yīng)。盡管OpticStudio目前沒有任何表面可以模擬這種磁光效應(yīng),但它可以通過瓊斯矩陣表面模擬軸上光隔離器的行為。


隔離器內(nèi)部的光學(xué)材料會(huì)根據(jù)傳播方向?qū)θ肷涔馐a(chǎn)生不同的影響。也就是說,對(duì)于沿給定方向傳播的線偏振光束,材料會(huì)將光束旋轉(zhuǎn)某個(gè)角度 α;當(dāng)沿相反方向行進(jìn)時(shí),材料會(huì)使光束旋轉(zhuǎn)-α。以弧度為單位的旋轉(zhuǎn)角 α 定義為:

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其中ν是Verdet 常數(shù)(以弧度每特斯拉米為單位的旋轉(zhuǎn)比例常數(shù)),B是施加到磁光介質(zhì)的磁通密度(特斯拉),d是介質(zhì)的長度(以米為單位)。


在OpticStudio中,可以通過瓊斯矩陣曲面定義旋轉(zhuǎn)角度:

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然而,這假設(shè)在z方向上沒有電場傳播。由于額外的離軸傳播距離,這也不會(huì)計(jì)算媒體本身對(duì)z分量或額外旋轉(zhuǎn)的影響。


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